백색 간섭계 탑재 레이저 현미경
VK-X3000 시리즈
컨트롤러부 VK-X3000
사양
모델 | VK-X3000 | |||
종류 | 컨트롤러부 | |||
종합 배율 | 42~28800배*1 | |||
시야 범위 | 11~7398 μm | |||
측정 원리 | 레이저 공초점, 포커스 바리에이션, 백색 간섭, 분광 간섭 | |||
레이저 광원 파장 | VK-X3100: 반도체 레이저 404 nm | |||
최고 레이저 측정 속도 | 면: 125 Hz, 선: 7900 Hz*2 | |||
레이저 최대 출력 | 0.9 mW | |||
레이저 등급 | 2등급 레이저 제품(KS C IEC60825-1) | |||
레이저 수광 소자 | 16 bit 센싱 포토멀티플라이어 | |||
백색 광원 | 백색 LED | |||
백색광 수광 소자 | 초고해상도 컬러 CMOS | |||
레이저 공초점 | 높이 표시 분해능 | VK-X3100: 0.1 nm | ||
높이 반복 정도 σ | VK-X3100: 10×: 100 nm, 20×: 40 nm, 50×: 12 nm | |||
높이 정확도 | 0.2+L/100 μm 이하*3 | |||
폭 표시 분해능 | VK-X3100: 0.1 nm | |||
폭 반복 정도 3σ | VK-X3100: 10×: 200 nm, 20×: 100 nm, 50×: 40 nm | |||
폭 정확도 | 측정값의 ±2% 이내*3 | |||
포커스 바리에이션 | 높이 표시 분해능 | VK-X3100: 0.1 nm | ||
높이 반복 정도 σ | VK-X3100: 5×: 500 nm, 10×: 100 nm, 20×: 50 nm, 50×: 20 nm | |||
높이 정확도 | 0.2+L/100 μm 이하*3 | |||
폭 표시 분해능 | VK-X3100: 0.1 nm | |||
폭 반복 정도 3σ | VK-X3100: 5×: 400 nm, 10×: 400 nm, 20×: 120 nm, 50×: 50 nm | |||
폭 정확도 | 측정값의 ±2% 이내*3 | |||
백색 간섭 | 높이 표시 분해능 | 0.01 nm | ||
폭 표시 분해능 | 0.1 nm | |||
Surface Topography Repeatability | 0.08 nm*4 | |||
Repeatability of RMS | 0.008 nm*4 | |||
분광 간섭 막 두께 측정 | 반복 정도 σ | 0.1 nm*4 | ||
정확도 | ±0.6%*4 | |||
광학 관찰 | 화소 수 | 560만 | ||
리볼버 | 6마운트 전동 리볼버 | |||
링 조명 대응 렌즈 | 2.5×, 5×, 10× | |||
광학 줌 | 1~8배 | |||
XY 스테이지 구성 | 수동 가동 범위 | 70×70 mm | ||
전동 가동 범위 | 100×100 mm | |||
전원 | 전원 전압 | 100~240 VAC, 50/60 Hz | ||
소비 전력 | 150 VA | |||
내환경성 | 사용 주위 온도 | +15~28℃ | ||
사용 주위 습도 | 20~80%RH(결로되지 않을 것) | |||
중량 | 약 3 kg | |||
*1 23인치 모니터 화면상에서 전체 화면으로 표시했을 때의 배율. |