백색 간섭계 탑재 레이저 현미경

VK-X3000 시리즈

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컨트롤러부 VK-X3000

VK-X3000 - 컨트롤러부

*제품 사진은 사용 방법을 알기 쉽게 하기 위해 부속품이 설치된 상태로 촬영되는 경우가 있습니다.

데이터 시트 (PDF)

  • CE Marking
  • CSA

사양

모델

VK-X3000

종류

컨트롤러부

종합 배율

42~28800배*1

시야 범위

11~7398 μm

측정 원리

레이저 공초점, 포커스 바리에이션, 백색 간섭, 분광 간섭

레이저 광원 파장

VK-X3100: 반도체 레이저 404 nm
VK-X3050: 반도체 레이저 661 nm

최고 레이저 측정 속도

면: 125 Hz, 선: 7900 Hz*2

레이저 최대 출력

0.9 mW

레이저 등급

2등급 레이저 제품(KS C IEC60825-1)

레이저 수광 소자

16 bit 센싱 포토멀티플라이어

백색 광원

백색 LED

백색광 수광 소자

초고해상도 컬러 CMOS

레이저 공초점

높이 표시 분해능

VK-X3100: 0.1 nm
VK-X3050: 1 nm

높이 반복 정도 σ

VK-X3100: 10×: 100 nm, 20×: 40 nm, 50×: 12 nm
VK-X3050: 10×: 100 nm, 20×: 40 nm, 50×: 20 nm

높이 정확도

0.2+L/100 μm 이하*3

폭 표시 분해능

VK-X3100: 0.1 nm
VK-X3050: 1 nm

폭 반복 정도 3σ

VK-X3100: 10×: 200 nm, 20×: 100 nm, 50×: 40 nm
VK-X3050: 10×: 400 nm, 20×: 100 nm, 50×: 50 nm

폭 정확도

측정값의 ±2% 이내*3

포커스 바리에이션

높이 표시 분해능

VK-X3100: 0.1 nm
VK-X3050: 1 nm

높이 반복 정도 σ

VK-X3100: 5×: 500 nm, 10×: 100 nm, 20×: 50 nm, 50×: 20 nm
VK-X3050: 5×: 500 nm, 10×: 100 nm, 20×: 50 nm, 50×: 30 nm

높이 정확도

0.2+L/100 μm 이하*3

폭 표시 분해능

VK-X3100: 0.1 nm
VK-X3050: 1 nm

폭 반복 정도 3σ

VK-X3100: 5×: 400 nm, 10×: 400 nm, 20×: 120 nm, 50×: 50 nm
VK-X3050: 5×: 400 nm, 10×: 400 nm, 20×: 120 nm, 50×: 65 nm

폭 정확도

측정값의 ±2% 이내*3

백색 간섭

높이 표시 분해능

0.01 nm

폭 표시 분해능

0.1 nm

Surface Topography Repeatability

0.08 nm*4

Repeatability of RMS

0.008 nm*4

분광 간섭 막 두께 측정

반복 정도 σ

0.1 nm*4

정확도

±0.6%*4

광학 관찰

화소 수

560만

리볼버

6마운트 전동 리볼버

링 조명 대응 렌즈

2.5×, 5×, 10×

광학 줌

1~8배

XY 스테이지 구성

수동 가동 범위

70×70 mm

전동 가동 범위

100×100 mm

전원

전원 전압

100~240 VAC, 50/60 Hz

소비 전력

150 VA

내환경성

사용 주위 온도

+15~28℃

사용 주위 습도

20~80%RH(결로되지 않을 것)

중량

약 3 kg

*1 23인치 모니터 화면상에서 전체 화면으로 표시했을 때의 배율.
*2 측정 모드/측정 품질/렌즈 배율의 조합 중 최고 속도인 경우. 라인 스캔은 측정 피치가 0.1 μm 이내일 때.
*3 표준 시료를 20배 이상의 렌즈로 측정했을 때.
*4 KEYENCE 기정 측정 환경에서의 대표값입니다.

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